參考信息

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 全自動MALDI靶板基質(zhì)覆蓋系統(tǒng)，可獲得優(yōu)越的樣品重現(xiàn)性以及高質(zhì)量的數(shù)據(jù)和圖譜,；獨有的專利噴嘴技術(shù)確保穩(wěn)定一致的基質(zhì)噴射覆蓋流程,，是質(zhì)譜成像技術(shù)的關(guān)鍵。

產(chǎn)品特點

1. 精密機械裝置

X/Y軸步進馬達精確定位,，線性恒定速度平穩(wěn)傳輸靶板

2. 穩(wěn)定一致的基質(zhì)噴霧

可控揮發(fā)過程,，避免分析物的移位效應(yīng)

高效率結(jié)晶，滿足優(yōu)越的質(zhì)譜信號要求

3. 廣泛基質(zhì)選擇

廣泛選擇不同基質(zhì)溶劑,，具備極大靈活性

4. 用戶友好界面

5. 可調(diào)方法參數(shù)

技術(shù)參數(shù)

運行裝置：固定靶板平臺,，移動式噴嘴

基質(zhì)覆蓋：以線性或曲線方式（不同偏離距離），

交替垂直的基質(zhì)噴射路徑確保均勻的覆蓋

噴霧速度：50-1000 μl/min

氣流溫度：室溫-150℃（±2℃）

氣流速度：5-15.5 L/min

電源要求：120V,，60Hz 或 220V,，50Hz：2.5A

規(guī)格/重量：42×34×31cm，34kg

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產(chǎn)品彩頁

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